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半導體行業(yè)有機廢氣解決解決方法
半導體行業(yè)做為高新科技產(chǎn)業(yè)鏈,通常被別人誤會為“清理”產(chǎn)業(yè)鏈,但實際上,半導體材料生產(chǎn)過程中應用了很多有機化合物和無機化合物,包含很多有害有害物,對污染環(huán)境比較比較嚴重,如不加以控制,可能造成很大的空氣污染。一些半導體產(chǎn)業(yè)比較發(fā)達的國家和地區(qū),如英國、法國和臺灣省等,都對于半導體行業(yè)制訂了相對的環(huán)保標準。
半導體行業(yè)中應用的清潔液、顯影劑、光刻技術(shù)、蝕刻液等有機溶劑,帶有很多的有機化合物成份。在工藝加工工藝全過程中,這種溶劑絕大多數(shù)根據(jù)蒸發(fā)變成廢氣排出。
半導體行業(yè)有機廢氣解決,現(xiàn)階段一般采用吸附、焚燒處理或二者緊密結(jié)合的解決方式。吸附是運用多孔結(jié)構(gòu)固態(tài)吸附劑解決混合氣,使在其中含有的一種或多種多樣成分吸附在固態(tài)表層,做到分離出來的目地。吸附劑可選擇性高,能分離其他全過程無法分離的化合物,合理地消除或收購 濃度值很低的有害物,清潔高效率,機器設(shè)備簡易,實際操作便捷,且能完成自動控制系統(tǒng)。
可是,固態(tài)吸附劑的吸附容積小,必須很多的吸附劑,機器設(shè)備巨大,且吸附后吸附劑必須再造解決,是吸附解決的關(guān)鍵缺陷。半導體材料生產(chǎn)制造場地蒸發(fā)出去的有機廢氣根據(jù)部分排風罩搜集,經(jīng)濟管理道送至吸附凈化設(shè)備。一般采用活性碳做為吸附劑。由于活性碳是非極性吸附劑,對廢氣中水蒸汽的敏感度不高,且價格低。焚燒處理的方式也普遍用以半導體行業(yè)解決各種各樣有機廢氣,根據(jù)苛化將有機化合物轉(zhuǎn)換為CO2和H20。另外,焚燒處理對解決平穩(wěn)總流量和濃度值的廢氣也是一種非常好的方式。在苛化中,有機廢氣流歷經(jīng)加溫,液相中的有機化合物被氧化。為節(jié)約然料應用,一般 還應用換熱器,收購 焚燒處理造成的發(fā)熱量對進口汽體開展加熱。針對解決大流量、較低濃度的的汽體,一般 都需要采用這類方式。因為半導體行業(yè)廢氣焚燒處理會造成SiO2,且SiO2會使金屬催化劑鈍化處理,因而半導體行業(yè)中非常少采用觸碰空氣氧化的方式。
在廢氣整治層面,半導體行業(yè)酸、堿廢氣一般采用相對的燒堿溶液消化吸收和酸液消化吸收開展解決,加工工藝方式已很完善,只需適度提升有關(guān)加工工藝主要參數(shù),可以考慮本規(guī)范的規(guī)定。
現(xiàn)階段,有機廢氣解決常見加工工藝有:吸附法、消化吸收法、立即點燃法、催化燃燒裝置法、冷疑法等。吸附法采用活性碳立即吸附,清潔效果非常的好,可是經(jīng)營成本會很高;消化吸收法合適于溫度低、中濃度較高的的廢氣;立即點燃法合適于濃度較高的、小排風量廢氣整治;冷疑法適用成份相對性單一、濃度值高、且有一定收購 使用價值的有機廢氣。而針對半導體行業(yè)較低濃度的、風大量、成份繁雜的有機廢氣,吸附法、消化吸收法、點燃法、冷疑法均不適合,較為可用的是吸附+催化燃燒裝置法。
半導體行業(yè)有機廢氣解決,現(xiàn)階段中國一些大中型半導體企業(yè)已采用沸石轉(zhuǎn)輪吸附濃縮后點燃,該方式適用風大量、較低濃度的、常溫下的有機廢氣解決,清潔高效率做到90%之上,濃縮比達20﹕1,運作花費較低,機器設(shè)備解決排風量大,占地小,不造成二次污染,可持續(xù)性吸附并解決空氣污染物。依據(jù)公司具體運作狀況,有機廢氣進氣口濃度值在200mg/m3之上時,解決高效率做到95%;200mg/m3下列時解決后濃度值操縱在50mg/m3,可確保廢氣達到環(huán)保標準。
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